薄膜沉积设备
OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 12 英寸旋转基片 CSS/RTP 热处理炉
型号OTF-1200X-RTP-II-CSS-300
不锈钢真空炉集成双红外加热器和 12 英寸旋转基片架，用于薄膜热处理研究。
基片直径
12 in
加热器最高温度
950 °C
腔体内部尺寸
Ø500 × 460 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
基片直径: 12 in
-
加热器最高温度: 950 °C
-
腔体内部尺寸: Ø500 × 460 mm
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 基片直径 | 12 in |
|---|---|
| 加热器最高温度 | 950 °C |
| 腔体内部尺寸 | Ø500 × 460 mm |
| 基片架转速 | 1–10 rpm |
| 加热器间距 | 2–25 mm |
| 最大电力需求 | 60 kW；三相 |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认蒸发材料、蒸发源兼容性、基片尺寸、真空度及电气配置。设备与附件以最终确认的配置为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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