OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 12-Inch CSS/RTP Furnace with Rotating Substrate Holder
A stainless-steel vacuum furnace with dual infrared heaters and a rotating 12-inch substrate holder for thin-film thermal processing.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características clave del producto
-
Substrate diameter: 12 in
-
Maximum heater temperature: 950 °C
-
Chamber inner size: Ø500 × 460 mm
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Substrate diameter | 12 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 950 °C |
| Chamber inner size | Ø500 × 460 mm |
| Holder rotation | 1–10 rpm |
| Heater spacing | 2–25 mm |
| Maximum power requirement | 60 kW; three phase |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
Más de esta categoría
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
Ver detalles →
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
Ver detalles →
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
Ver detalles →
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
Ver detalles →
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
Ver detalles →
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
Ver detalles →
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
Ver detalles →