薄膜成膜装置
OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 12-Inch CSS/RTP Furnace with Rotating Substrate Holder
モデルOTF-1200X-RTP-II-CSS-300
A stainless-steel vacuum furnace with dual infrared heaters and a rotating 12-inch substrate holder for thin-film thermal processing.
Substrate diameter
12 in
Maximum heater temperature
950 °C
Chamber inner size
Ø500 × 460 mm
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Substrate diameter: 12 in
-
Maximum heater temperature: 950 °C
-
Chamber inner size: Ø500 × 460 mm
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Substrate diameter | 12 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 950 °C |
| Chamber inner size | Ø500 × 460 mm |
| Holder rotation | 1–10 rpm |
| Heater spacing | 2–25 mm |
| Maximum power requirement | 60 kW; three phase |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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