OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 12-Inch CSS/RTP Furnace with Rotating Substrate Holder
A stainless-steel vacuum furnace with dual infrared heaters and a rotating 12-inch substrate holder for thin-film thermal processing.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Principais recursos do produto
-
Substrate diameter: 12 in
-
Maximum heater temperature: 950 °C
-
Chamber inner size: Ø500 × 460 mm
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Substrate diameter | 12 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 950 °C |
| Chamber inner size | Ø500 × 460 mm |
| Holder rotation | 1–10 rpm |
| Heater spacing | 2–25 mm |
| Maximum power requirement | 60 kW; three phase |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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