OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 12-Inch CSS/RTP Furnace with Rotating Substrate Holder
A stainless-steel vacuum furnace with dual infrared heaters and a rotating 12-inch substrate holder for thin-film thermal processing.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Principales caractéristiques
-
Substrate diameter: 12 in
-
Maximum heater temperature: 950 °C
-
Chamber inner size: Ø500 × 460 mm
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Substrate diameter | 12 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 950 °C |
| Chamber inner size | Ø500 × 460 mm |
| Holder rotation | 1–10 rpm |
| Heater spacing | 2–25 mm |
| Maximum power requirement | 60 kW; three phase |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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