B2B-подбор лабораторного оборудования Координация поставщиков · Техническое уточнение · Экспортная поддержка
Оборудование для нанесения тонких плёнок

OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 12-Inch CSS/RTP Furnace with Rotating Substrate Holder

МодельOTF-1200X-RTP-II-CSS-300

A stainless-steel vacuum furnace with dual infrared heaters and a rotating 12-inch substrate holder for thin-film thermal processing.

Substrate diameter 12 in
Maximum heater temperature 950 °C
Chamber inner size Ø500 × 460 mm
  • Финальная конфигурация подтверждается до предложения
  • Настройка и аксессуары проверяются по применению
  • Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Особенности оборудования

Ключевые характеристики продукта

  • Substrate diameter: 12 in

  • Maximum heater temperature: 950 °C

  • Chamber inner size: Ø500 × 460 mm

Технические данные

Технические спецификации

Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.

Key specifications

Substrate diameter 12 in
Maximum heater temperature 950 °C
Chamber inner size Ø500 × 460 mm
Holder rotation 1–10 rpm
Heater spacing 2–25 mm
Maximum power requirement 60 kW; three phase

Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.

Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.