薄膜沉积设备
HVMSS-SPC-1-LD 可倾斜 1 英寸射频直流磁控溅射源
型号HVMSS-SPC-1-LD
紧凑型溅射源部件，入射角可调，需配合外部射频或直流电源及水冷使用。
靶材直径
25.4 mm
靶材最大厚度
3 mm
最大输入功率
直流 250 W；射频 100 W
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
靶材直径: 25.4 mm
-
靶材最大厚度: 3 mm
-
最大输入功率: 直流 250 W；射频 100 W
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 靶材直径 | 25.4 mm |
|---|---|
| 靶材最大厚度 | 3 mm |
| 最大输入功率 | 直流 250 W；射频 100 W |
| 源头倾角 | ±45° |
| 工作电压 | 200–1000 V |
| 工作压力 | 1 mTorr–1 Torr |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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