B2B-подбор лабораторного оборудования Координация поставщиков · Техническое уточнение · Экспортная поддержка
Оборудование для нанесения тонких плёнок

HVMSS-SPC-1-LD Tilting 1-Inch RF/DC Magnetron Sputtering Source

МодельHVMSS-SPC-1-LD

A compact source component with adjustable incidence angle, suitable for integration with an external RF or DC supply and water cooling.

Target diameter 25.4 mm
Maximum target thickness 3 mm
Maximum input power 250 W DC; 100 W RF
  • Финальная конфигурация подтверждается до предложения
  • Настройка и аксессуары проверяются по применению
  • Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Особенности оборудования

Ключевые характеристики продукта

  • Target diameter: 25.4 mm

  • Maximum target thickness: 3 mm

  • Maximum input power: 250 W DC; 100 W RF

Технические данные

Технические спецификации

Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.

Key specifications

Target diameter 25.4 mm
Maximum target thickness 3 mm
Maximum input power 250 W DC; 100 W RF
Head tilt ±45°
Operating voltage 200–1000 V
Operating pressure 1 mTorr–1 Torr

Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.