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Equipos de deposición de películas delgadas

HVMSS-SPC-1-LD Tilting 1-Inch RF/DC Magnetron Sputtering Source

ModeloHVMSS-SPC-1-LD

A compact source component with adjustable incidence angle, suitable for integration with an external RF or DC supply and water cooling.

Target diameter 25.4 mm
Maximum target thickness 3 mm
Maximum input power 250 W DC; 100 W RF
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características del equipo

Características clave del producto

  • Target diameter: 25.4 mm

  • Maximum target thickness: 3 mm

  • Maximum input power: 250 W DC; 100 W RF

Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Target diameter 25.4 mm
Maximum target thickness 3 mm
Maximum input power 250 W DC; 100 W RF
Head tilt ±45°
Operating voltage 200–1000 V
Operating pressure 1 mTorr–1 Torr

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.