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Équipements de dépôt de couches minces

HVMSS-SPC-1-LD Tilting 1-Inch RF/DC Magnetron Sputtering Source

ModèleHVMSS-SPC-1-LD

A compact source component with adjustable incidence angle, suitable for integration with an external RF or DC supply and water cooling.

Target diameter 25.4 mm
Maximum target thickness 3 mm
Maximum input power 250 W DC; 100 W RF
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Caractéristiques de l’équipement

Principales caractéristiques

  • Target diameter: 25.4 mm

  • Maximum target thickness: 3 mm

  • Maximum input power: 250 W DC; 100 W RF

Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Target diameter 25.4 mm
Maximum target thickness 3 mm
Maximum input power 250 W DC; 100 W RF
Head tilt ±45°
Operating voltage 200–1000 V
Operating pressure 1 mTorr–1 Torr

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.