薄膜沉积设备
VTC-600-3HD-LD 多层薄膜用三源射频直流磁控镀膜机
型号VTC-600-3HD-LD
三组水冷源与三路质量流量控制器，配合加热旋转样品台，用于多材料薄膜制备。
溅射头
3 × 2 in
电源配置
2 路 500 W 直流 + 1 路 300 W 射频（13.56 MHz）
腔体尺寸
Ø300 × 300 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
溅射头: 3 × 2 in
-
电源配置: 2 路 500 W 直流 + 1 路 300 W 射频（13.56 MHz）
-
腔体尺寸: Ø300 × 300 mm
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 溅射头 | 3 × 2 in |
|---|---|
| 电源配置 | 2 路 500 W 直流 + 1 路 300 W 射频（13.56 MHz） |
| 腔体尺寸 | Ø300 × 300 mm |
| 样品台直径 | 140 mm |
| 样品台转速与加热 | 1–20 rpm；最高 500 °C |
| 气体控制 | 3 路 MFC；0–200 sccm，以氮气标定 |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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