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薄膜沉积设备

VTC-600-2HD-GB-LD 手套箱射频直流双靶磁控镀膜系统

型号VTC-600-2HD-GB-LD

双靶镀膜腔嵌入净化手套箱,样品在箱内操作,直流与射频电源放置于箱外。

手套箱腔体 1200 × 740 × 900 mm
净化气氛 O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
溅射头 2 × 2 in
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
设备特点

主要产品特点

  • 手套箱腔体: 1200 × 740 × 900 mm

  • 净化气氛: O2 <1 ppm; H2O <1 ppm

  • 溅射头: 2 × 2 in

技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

手套箱腔体 1200 × 740 × 900 mm
净化气氛 O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
溅射头 2 × 2 in
电源参数 直流 500 W;射频 300 W、13.56 MHz
沉积腔体 Ø300 × 300 mm
样品台转速 1–20 rpm

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。