薄膜成膜装置
VTC-600-2HD-GB-LD Glovebox RF/DC Dual-Head Magnetron Coating System
モデルVTC-600-2HD-GB-LD
A recessed dual-head coater keeps sample handling inside a purified glovebox, with DC and RF supplies mounted outside.
Glovebox chamber
1200 × 740 × 900 mm
Purified atmosphere
O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
Sputtering heads
2 × 2 in
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Glovebox chamber: 1200 × 740 × 900 mm
-
Purified atmosphere: O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
-
Sputtering heads: 2 × 2 in
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Glovebox chamber | 1200 × 740 × 900 mm |
|---|---|
| Purified atmosphere | O2 <1 ppm; H2O <1 ppm |
| Sputtering heads | 2 × 2 in |
| Source ratings | 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz |
| Deposition chamber | Ø300 × 300 mm |
| Stage rotation | 1–20 rpm |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
関連設備
同カテゴリのその他製品
VTC-16-D
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
詳細を見る →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
詳細を見る →
VTC-16-3HD-LD
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
詳細を見る →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
詳細を見る →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
詳細を見る →
VTC-16-PW
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
詳細を見る →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
詳細を見る →
VTC-3RF