B2B研究設備調達 サプライヤー調整 · 技術確認 · 輸出サポート
薄膜成膜装置

VTC-600-3HD-GB Glovebox-Integrated Three-Source Sputtering System

モデルVTC-600-3HD-GB

Three 2-inch sputtering sources combine with a purified glovebox for handling and coating air-sensitive materials.

Glovebox chamber 1200 × 740 × 900 mm
Purified atmosphere O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
Sputtering heads 3 × 2 in
  • 最終構成は見積前に確認
  • 用途に応じてカスタムと付属品を確認
  • 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴

主な製品特徴

  • Glovebox chamber: 1200 × 740 × 900 mm

  • Purified atmosphere: O2 <1 ppm; H2O <1 ppm

  • Sputtering heads: 3 × 2 in

技術データ

技術仕様

仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。

Key specifications

Glovebox chamber 1200 × 740 × 900 mm
Purified atmosphere O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
Sputtering heads 3 × 2 in
Source configuration 2 × 500 W DC + 1 × 300 W RF (13.56 MHz)
Deposition chamber Ø300 × 300 mm
Sample stage Ø140 mm; 1–20 rpm; up to 500 °C

仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。

The illustration shows the three-head sputtering module, not the complete glovebox. DC/RF supplies and glovebox integration require configuration confirmation.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.