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Équipements de dépôt de couches minces

VTC-600-3HD-GB Glovebox-Integrated Three-Source Sputtering System

ModèleVTC-600-3HD-GB

Three 2-inch sputtering sources combine with a purified glovebox for handling and coating air-sensitive materials.

Glovebox chamber 1200 × 740 × 900 mm
Purified atmosphere O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
Sputtering heads 3 × 2 in
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Caractéristiques de l’équipement

Principales caractéristiques

  • Glovebox chamber: 1200 × 740 × 900 mm

  • Purified atmosphere: O2 <1 ppm; H2O <1 ppm

  • Sputtering heads: 3 × 2 in

Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Glovebox chamber 1200 × 740 × 900 mm
Purified atmosphere O2 <1 ppm; H2O <1 ppm
Sputtering heads 3 × 2 in
Source configuration 2 × 500 W DC + 1 × 300 W RF (13.56 MHz)
Deposition chamber Ø300 × 300 mm
Sample stage Ø140 mm; 1–20 rpm; up to 500 °C

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

The illustration shows the three-head sputtering module, not the complete glovebox. DC/RF supplies and glovebox integration require configuration confirmation.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.