薄膜成膜装置
OTF-1200X-RTP-II Dual-Zone CSS and Rapid Thermal Processing Furnace
モデルOTF-1200X-RTP-II
Independently controlled upper and lower infrared heaters support close-spaced sublimation and thermal processing of 3-inch substrates.
Substrate diameter
3 in
Maximum heater temperature
650 °C
Heater spacing
10–50 mm
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Substrate diameter: 3 in
-
Maximum heater temperature: 650 °C
-
Heater spacing: 10–50 mm
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Substrate diameter | 3 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 650 °C |
| Heater spacing | 10–50 mm |
| Temperature program | 2 controllers; 30 segments each |
| Total heating power | 2200 W |
| Overall dimensions | 850 × 745 × 1615 mm |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
関連設備
同カテゴリのその他製品
VTC-16-D
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
詳細を見る →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
詳細を見る →
VTC-16-3HD-LD
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
詳細を見る →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
詳細を見る →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
詳細を見る →
VTC-16-PW
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
詳細を見る →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
詳細を見る →
VTC-3RF