OTF-1200X-RTP-II Dual-Zone CSS and Rapid Thermal Processing Furnace
Independently controlled upper and lower infrared heaters support close-spaced sublimation and thermal processing of 3-inch substrates.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Ключевые характеристики продукта
-
Substrate diameter: 3 in
-
Maximum heater temperature: 650 °C
-
Heater spacing: 10–50 mm
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Substrate diameter | 3 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 650 °C |
| Heater spacing | 10–50 mm |
| Temperature program | 2 controllers; 30 segments each |
| Total heating power | 2200 W |
| Overall dimensions | 850 × 745 × 1615 mm |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.
Больше из этой категории
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
Подробнее →
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
Подробнее →
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
Подробнее →
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
Подробнее →
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
Подробнее →
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
Подробнее →
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
Подробнее →