توريد معدات مختبرية B2B تنسيق الموردين · توضيح فني · دعم التصدير
معدات ترسيب الأغشية الرقيقة

OTF-1200X-RTP-II Dual-Zone CSS and Rapid Thermal Processing Furnace

النموذجOTF-1200X-RTP-II

Independently controlled upper and lower infrared heaters support close-spaced sublimation and thermal processing of 3-inch substrates.

Substrate diameter 3 in
Maximum heater temperature 650 °C
Heater spacing 10–50 mm
  • يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
  • تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
  • تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب
ميزات المعدات

ميزات المنتج الرئيسية

  • Substrate diameter: 3 in

  • Maximum heater temperature: 650 °C

  • Heater spacing: 10–50 mm

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Substrate diameter 3 in
Maximum heater temperature 650 °C
Heater spacing 10–50 mm
Temperature program 2 controllers; 30 segments each
Total heating power 2200 W
Overall dimensions 850 × 745 × 1615 mm

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.