معدات ترسيب الأغشية الرقيقة
OTF-1200X-RTP-II Dual-Zone CSS and Rapid Thermal Processing Furnace
النموذجOTF-1200X-RTP-II
Independently controlled upper and lower infrared heaters support close-spaced sublimation and thermal processing of 3-inch substrates.
Substrate diameter
3 in
Maximum heater temperature
650 °C
Heater spacing
10–50 mm
- يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
- تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
- تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب
اتصال فني مباشر
ميزات المعدات
ميزات المنتج الرئيسية
-
Substrate diameter: 3 in
-
Maximum heater temperature: 650 °C
-
Heater spacing: 10–50 mm
بيانات فنية
المواصفات الفنية
تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.
Key specifications
| Substrate diameter | 3 in |
|---|---|
| Maximum heater temperature | 650 °C |
| Heater spacing | 10–50 mm |
| Temperature program | 2 controllers; 30 segments each |
| Total heating power | 2200 W |
| Overall dimensions | 850 × 745 × 1615 mm |
قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.
اتصال فني مباشر
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
يمكن تأكيد تفاصيل الشراء قبل الطلب.
تأكيد المتطلبات
للمشترين الدوليين، يمكن أن يشمل تأكيد العرض التكوين والملحقات وطريقة التعبئة ومستندات التصدير وصور أو فيديو الفحص وشروط الشحن.
معدات ذات صلة







