HVMSS-SPC-2F Adjustable 2-Inch Magnetron Sputtering Source
A water-cooled source component for custom sputtering systems, with a tilting head and quick vacuum connection; not a complete coater.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Principais recursos do produto
-
Target diameter: 50.8 mm
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Maximum input power: 500 W DC; 300 W RF
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Head tilt: ±25°
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Target diameter | 50.8 mm |
|---|---|
| Maximum input power | 500 W DC; 300 W RF |
| Head tilt | ±25° |
| Sputtering voltage | 200–1000 V |
| Operating pressure | 1–1000 mTorr |
| Cooling-water requirement | 0.8 GPM; inlet <20 °C |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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