HVMSS-SPC-2F Adjustable 2-Inch Magnetron Sputtering Source
A water-cooled source component for custom sputtering systems, with a tilting head and quick vacuum connection; not a complete coater.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características clave del producto
-
Target diameter: 50.8 mm
-
Maximum input power: 500 W DC; 300 W RF
-
Head tilt: ±25°
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Target diameter | 50.8 mm |
|---|---|
| Maximum input power | 500 W DC; 300 W RF |
| Head tilt | ±25° |
| Sputtering voltage | 200–1000 V |
| Operating pressure | 1–1000 mTorr |
| Cooling-water requirement | 0.8 GPM; inlet <20 °C |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
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