HVMSS-SPC-2F Adjustable 2-Inch Magnetron Sputtering Source
A water-cooled source component for custom sputtering systems, with a tilting head and quick vacuum connection; not a complete coater.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Wichtige Produktmerkmale
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Target diameter: 50.8 mm
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Maximum input power: 500 W DC; 300 W RF
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Head tilt: ±25°
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Target diameter | 50.8 mm |
|---|---|
| Maximum input power | 500 W DC; 300 W RF |
| Head tilt | ±25° |
| Sputtering voltage | 200–1000 V |
| Operating pressure | 1–1000 mTorr |
| Cooling-water requirement | 0.8 GPM; inlet <20 °C |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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