HVMSS-SPC-2F Adjustable 2-Inch Magnetron Sputtering Source
A water-cooled source component for custom sputtering systems, with a tilting head and quick vacuum connection; not a complete coater.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Ключевые характеристики продукта
-
Target diameter: 50.8 mm
-
Maximum input power: 500 W DC; 300 W RF
-
Head tilt: ±25°
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Target diameter | 50.8 mm |
|---|---|
| Maximum input power | 500 W DC; 300 W RF |
| Head tilt | ±25° |
| Sputtering voltage | 200–1000 V |
| Operating pressure | 1–1000 mTorr |
| Cooling-water requirement | 0.8 GPM; inlet <20 °C |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.
Больше из этой категории
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
Подробнее →
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
Подробнее →
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
Подробнее →
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
Подробнее →
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
Подробнее →
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
Подробнее →
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
Подробнее →