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薄膜沉积设备

GSL-1700X-EV4 四坩埚顺序沉积热蒸发镀膜机

型号GSL-1700X-EV4

四个蒸发坩埚依次加热制备多层膜,共用温控器,配备 2 英寸旋转台。

蒸发坩埚 4 个,每个 3 mL;依次加热
标准测温范围 S 型热电偶:200–1500 °C
高温选项 选配 B 型热电偶:1200–1700 °C
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
设备特点

主要产品特点

  • 蒸发坩埚: 4 个,每个 3 mL;依次加热

  • 标准测温范围: S 型热电偶:200–1500 °C

  • 高温选项: 选配 B 型热电偶:1200–1700 °C

技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

蒸发坩埚 4 个,每个 3 mL;依次加热
标准测温范围 S 型热电偶:200–1500 °C
高温选项 选配 B 型热电偶:1200–1700 °C
样品台 直径 2 英寸;5 rpm
腔体内部尺寸 Ø260 × 310 mm
温度程序 30 段;±1 °C

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

请与 LabSova 确认蒸发材料、蒸发源兼容性、基片尺寸、真空度及电气配置。设备与附件以最终确认的配置为准。