薄膜沉积设备
GSL-1700X-SPC2 程序温控台式热蒸发镀膜仪
型号GSL-1700X-SPC2
钨丝蒸发源与旋转样品台配合，支持程序温度曲线，用于小面积薄膜沉积。
温度程序
30 段；稳定度 ±1 °C
样品台直径
50 mm
样品台转速
5 rpm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
温度程序: 30 段；稳定度 ±1 °C
-
样品台直径: 50 mm
-
样品台转速: 5 rpm
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 温度程序 | 30 段；稳定度 ±1 °C |
|---|---|
| 样品台直径 | 50 mm |
| 样品台转速 | 5 rpm |
| 源基距 | 40–85 mm |
| 腔体内部尺寸 | Ø150 × 250 mm |
| 真空接口 | KF25；真空泵另行选配 |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认蒸发材料、蒸发源兼容性、基片尺寸、真空度及电气配置。设备与附件以最终确认的配置为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
同分类更多产品
VTC-16-D
VTC-16-D SEM 样品用小型直流溅射镀膜仪
查看详情 →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD 溅射与碳蒸发二合一镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-3HD-LD
VTC-16-3HD-LD 三靶旋转等离子溅射镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W 旋转样品台直流磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX 可选直流或射频源的小型磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-PW
VTC-16-PW 振动样品杯直流磁控粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP 带气体净化的三靶射频直流粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3RF