薄膜沉积设备
EQ-TWB 多规格钨丝蒸发篮
型号EQ-TWB
用于适配蒸发源的可替换钨丝篮，裸钨和涂层型号具有不同尺寸及温度限值。
EQ-TWB-879 尺寸
内径7 × 高9 mm；总长100 mm；丝径0.5 mm
EQ-SPC2-TB 尺寸
内径19 × 高20 mm；总长85 mm；丝径1 mm
裸钨篮温度额定值
2200 °C
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
EQ-TWB-879 尺寸: 内径7 × 高9 mm；总长100 mm；丝径0.5 mm
-
EQ-SPC2-TB 尺寸: 内径19 × 高20 mm；总长85 mm；丝径1 mm
-
裸钨篮温度额定值: 2200 °C
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| EQ-TWB-879 尺寸 | 内径7 × 高9 mm；总长100 mm；丝径0.5 mm |
|---|---|
| EQ-SPC2-TB 尺寸 | 内径19 × 高20 mm；总长85 mm；丝径1 mm |
| 裸钨篮温度额定值 | 2200 °C |
| Coated-84-24 温度额定值 | 1475 °C |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认蒸发材料、蒸发源兼容性、基片尺寸、真空度及电气配置。设备与附件以最终确认的配置为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
同分类更多产品
VTC-16-D
VTC-16-D SEM 样品用小型直流溅射镀膜仪
查看详情 →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD 溅射与碳蒸发二合一镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-3HD-LD
VTC-16-3HD-LD 三靶旋转等离子溅射镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W 旋转样品台直流磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX 可选直流或射频源的小型磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-PW
VTC-16-PW 振动样品杯直流磁控粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP 带气体净化的三靶射频直流粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3RF