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薄膜成膜装置

MSKPSEGEC1515 Six-Source Glovebox Thermal Evaporation System

モデルMSKPSEGEC1515

Three metal and three organic evaporation sources are integrated with a purified glovebox for air-sensitive thin-film research.

Source configuration 3 metal sources + 3 organic sources
Source temperature ratings Metal: ≤1500 °C; organic: 0–700 °C
Chamber dimensions 400 × 400 × 450 mm
  • 最終構成は見積前に確認
  • 用途に応じてカスタムと付属品を確認
  • 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴

主な製品特徴

  • Source configuration: 3 metal sources + 3 organic sources

  • Source temperature ratings: Metal: ≤1500 °C; organic: 0–700 °C

  • Chamber dimensions: 400 × 400 × 450 mm

技術データ

技術仕様

仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。

Key specifications

Source configuration 3 metal sources + 3 organic sources
Source temperature ratings Metal: ≤1500 °C; organic: 0–700 °C
Chamber dimensions 400 × 400 × 450 mm
Maximum sample size 150 × 150 mm
Stage rotation 0–30 rpm
Purified atmosphere O2 <1 ppm; H2O <1 ppm

仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。

Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.