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薄膜成膜装置

HVHP-100 100 mm Vacuum-Compatible Heating Plate with PID Control

モデルHVHP-100

A FeCrAl-heated substrate plate for coating-system integration, with a K-type sensor and programmable temperature profiles.

Heating area diameter 100 mm
Temperature limit 800 °C max.; <8 h
Power rating 850 W
  • 最終構成は見積前に確認
  • 用途に応じてカスタムと付属品を確認
  • 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴

主な製品特徴

  • Heating area diameter: 100 mm

  • Temperature limit: 800 °C max.; <8 h

  • Power rating: 850 W

技術データ

技術仕様

仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。

Key specifications

Heating area diameter 100 mm
Temperature limit 800 °C max.; <8 h
Power rating 850 W
AC input 110–120 V, 50/60 Hz
Recommended ramp rate 5 °C/min
Temperature program 30 segments; ±1 °C

仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。

Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.