薄膜成膜装置
HVHP-100 100 mm Vacuum-Compatible Heating Plate with PID Control
モデルHVHP-100
A FeCrAl-heated substrate plate for coating-system integration, with a K-type sensor and programmable temperature profiles.
Heating area diameter
100 mm
Temperature limit
800 °C max.; <8 h
Power rating
850 W
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
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Heating area diameter: 100 mm
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Temperature limit: 800 °C max.; <8 h
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Power rating: 850 W
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Heating area diameter | 100 mm |
|---|---|
| Temperature limit | 800 °C max.; <8 h |
| Power rating | 850 W |
| AC input | 110–120 V, 50/60 Hz |
| Recommended ramp rate | 5 °C/min |
| Temperature program | 30 segments; ±1 °C |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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