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Equipamentos de deposição de filmes finos

HVHP-100 100 mm Vacuum-Compatible Heating Plate with PID Control

ModeloHVHP-100

A FeCrAl-heated substrate plate for coating-system integration, with a K-type sensor and programmable temperature profiles.

Heating area diameter 100 mm
Temperature limit 800 °C max.; <8 h
Power rating 850 W
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

  • Heating area diameter: 100 mm

  • Temperature limit: 800 °C max.; <8 h

  • Power rating: 850 W

Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Heating area diameter 100 mm
Temperature limit 800 °C max.; <8 h
Power rating 850 W
AC input 110–120 V, 50/60 Hz
Recommended ramp rate 5 °C/min
Temperature program 30 segments; ±1 °C

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.