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Equipos de deposición de películas delgadas

HVHP-100 100 mm Vacuum-Compatible Heating Plate with PID Control

ModeloHVHP-100

A FeCrAl-heated substrate plate for coating-system integration, with a K-type sensor and programmable temperature profiles.

Heating area diameter 100 mm
Temperature limit 800 °C max.; <8 h
Power rating 850 W
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características del equipo

Características clave del producto

  • Heating area diameter: 100 mm

  • Temperature limit: 800 °C max.; <8 h

  • Power rating: 850 W

Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Heating area diameter 100 mm
Temperature limit 800 °C max.; <8 h
Power rating 850 W
AC input 110–120 V, 50/60 Hz
Recommended ramp rate 5 °C/min
Temperature program 30 segments; ±1 °C

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Confirm the evaporation material, source compatibility, substrate dimensions, vacuum level and electrical configuration with LabSova. Equipment and accessories are supplied according to the agreed configuration.