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Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-III-80-F3LV Three-Zone CVD Furnace with Gas Mixing

ModeloOTF-1200X-III-80-F3LV

A long heated-tube system for CVD and diffusion research, using three independent zones and an 80 mm quartz tube with integrated three-gas mixing.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm; 880 mm total
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm; 880 mm total
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L
Gas flow ranges 3 channels: 10–100, 16–160, 25–250 cc/min
Vacuum pump 120 L/min rotary vane pump; stated system vacuum 10^-2 Torr

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.