OTF-1200X-ALD Plasma-Assisted Tube ALD Furnace
A dual-zone tube platform for plasma-assisted atomic layer deposition, combining controlled heating with a 13.56 MHz RF source. ALD valve and gas-delivery options are configured to the process.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Continuous temperature | 1100 °C |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm; 400 mm total |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Quartz processing tube | 50 mm OD x 44 mm ID x 2200 mm L |
| Optional ALD valves | 2 valves; minimum pulse 10 ms |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
