OTF-1200X-ALD Plasma-Assisted Tube ALD Furnace
A dual-zone tube platform for plasma-assisted atomic layer deposition, combining controlled heating with a 13.56 MHz RF source. ALD valve and gas-delivery options are configured to the process.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Continuous temperature | 1100 °C |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm; 400 mm total |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Quartz processing tube | 50 mm OD x 44 mm ID x 2200 mm L |
| Optional ALD valves | 2 valves; minimum pulse 10 ms |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
