OTF-1200X-ALD Plasma-Assisted Tube ALD Furnace
A dual-zone tube platform for plasma-assisted atomic layer deposition, combining controlled heating with a 13.56 MHz RF source. ALD valve and gas-delivery options are configured to the process.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Continuous temperature | 1100 °C |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm; 400 mm total |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Quartz processing tube | 50 mm OD x 44 mm ID x 2200 mm L |
| Optional ALD valves | 2 valves; minimum pulse 10 ms |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
