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Equipamentos de esferoidização e modificação superficial

Equipamento de esferoidização por plasma RF (PS)

ModeloPS

Pó metálico irregular ou pó cerâmico é alimentado em plasma de alta temperatura e alta frequência usando um alimentador de pó. O pó é fundido novamente em alta temperatura acima de 8.000 ° C no centro e depois solidificado e resfriado em pó com alta esfericidade.

  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Aplicações típicas
  • Ligas de tungstênio, ligas de tântalo, ligas de nióbio, outras ligas refratárias, pós cerâmicos, pós de compostos
Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

  • Alta temperatura de plasma

  • Alta esfericidade do pó

  • Sem limitação quanto à forma da matéria-prima

  • Adequado para materiais de alta pureza

  • Baixo consumo de gás

  • Alta barreira técnica

Princípios técnicos

Pó metálico irregular ou pó cerâmico é alimentado em plasma de alta temperatura e alta frequência usando um alimentador de pó. O pó é fundido novamente em alta temperatura acima de 8.000 ° C no centro e depois solidificado e resfriado em pó com alta esfericidade.

Vantagens técnicas

  • Alta temperatura plasmática
  • Alta esfericidade do pó
  • Não limitado pela forma da matéria-prima
  • Materiais de alta pureza
  • Baixo consumo de gás inerte
  • Alto limite técnico

Escopo principal da aplicação

  • Liga de tungstênio
  • Liga de tântalo
  • Liga de nióbio
  • Outras ligas refratárias
  • pó cerâmico
  • pó composto

Principais parâmetros técnicos

temperatura plasmática Temperatura central acima de 8.000°C
Matérias-primas aplicáveis Pó metálico irregular, pó cerâmico
Efeito de processamento Derreta novamente, solidifique e esfrie até formar um pó com alta esfericidade.