Mikrowellen-Plasma-Sphäroidisierungsanlage (MPS)
Unregelmäßiges Metallpulver oder Keramikpulver wird mithilfe einer Pulverzufuhr einem Hochtemperatur-Mikrowellenplasma zugeführt, und die Oberfläche des Pulvers wird bei einer hohen Temperatur über 2000 °C in der Mitte umgeschmolzen und anschließend verfestigt und zu Pulver mit hoher Sphärizität abgekühlt, oder die Oberfläche des mikrogeschmolzenen Pulvers wird mit nanoskaligen, verstärkten Partikeln beschichtet.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
- Metallpulver, Niedertemperatur-Hochentropielegierungen, Niedertemperatur-Keramikpulver, Oxidpulver, Graphenbeschichtung, weitere Legierungen
Wichtige Produktmerkmale
-
Sphäroidisierung von Metallpulvern
-
Beschichtung mit Metallnanopartikeln
-
Kompakte Stellfläche
-
Oberflächenmodifikation von Pulvern
-
Kleinserienproduktion von Pulvern
-
Sichere und einfache Bedienung
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Technical specifications
| Plasma type | High temperature microwave plasma |
|---|---|
| Core temperature | Above 2000°C |
| Processing power | Metal powder spheroidization, surface modification, nanoparticle coating |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Technische Grundlagen
Unregelmäßiges Metallpulver oder Keramikpulver wird mithilfe einer Pulverzufuhr einem Hochtemperatur-Mikrowellenplasma zugeführt, und die Oberfläche des Pulvers wird bei einer hohen Temperatur über 2000 °C in der Mitte umgeschmolzen und anschließend verfestigt und zu Pulver mit hoher Sphärizität abgekühlt, oder die Oberfläche des mikrogeschmolzenen Pulvers wird mit nanoskaligen, verstärkten Partikeln beschichtet.
Technische Vorteile
- Behandlung zur Sphäroidisierung von Metallpulver
- Beschichtung mit Metall-Nanopartikeln
- Die Ausrüstung nimmt eine kleine Fläche ein
- Modifikation der Pulveroberfläche
- Geeignet für die Kleinserienproduktion von Pulvern
- Sicher und einfach zu bedienen
Hauptanwendungsbereich
- Metallpulver
- Niedrigtemperaturlegierung mit hoher Entropie
- Niedertemperatur-Keramikpulver
- Oxidpulver
- Graphenbeschichtung
- Andere Legierungen
Wichtigste technische Parameter
| Plasmatyp | Hochtemperatur-Mikrowellenplasma |
|---|---|
| Kerntemperatur | Über 2000°C |
| Rechenleistung | Metallpulver-Sphäroidisierung, Oberflächenmodifikation, Nanopartikelbeschichtung |
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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