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Anlagen zur Sphäroidisierung und Oberflächenmodifikation

Mikrowellen-Plasma-Sphäroidisierungsanlage (MPS)

ModellMPS

Unregelmäßiges Metallpulver oder Keramikpulver wird mithilfe einer Pulverzufuhr einem Hochtemperatur-Mikrowellenplasma zugeführt, und die Oberfläche des Pulvers wird bei einer hohen Temperatur über 2000 °C in der Mitte umgeschmolzen und anschließend verfestigt und zu Pulver mit hoher Sphärizität abgekühlt, oder die Oberfläche des mikrogeschmolzenen Pulvers wird mit nanoskaligen, verstärkten Partikeln beschichtet.

  • Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
  • Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
  • Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Typische Anwendungen
  • Metallpulver, Niedertemperatur-Hochentropielegierungen, Niedertemperatur-Keramikpulver, Oxidpulver, Graphenbeschichtung, weitere Legierungen
Gerätemerkmale

Wichtige Produktmerkmale

  • Sphäroidisierung von Metallpulvern

  • Beschichtung mit Metallnanopartikeln

  • Kompakte Stellfläche

  • Oberflächenmodifikation von Pulvern

  • Kleinserienproduktion von Pulvern

  • Sichere und einfache Bedienung

Technische Grundlagen

Unregelmäßiges Metallpulver oder Keramikpulver wird mithilfe einer Pulverzufuhr einem Hochtemperatur-Mikrowellenplasma zugeführt, und die Oberfläche des Pulvers wird bei einer hohen Temperatur über 2000 °C in der Mitte umgeschmolzen und anschließend verfestigt und zu Pulver mit hoher Sphärizität abgekühlt, oder die Oberfläche des mikrogeschmolzenen Pulvers wird mit nanoskaligen, verstärkten Partikeln beschichtet.

Technische Vorteile

  • Behandlung zur Sphäroidisierung von Metallpulver
  • Beschichtung mit Metall-Nanopartikeln
  • Die Ausrüstung nimmt eine kleine Fläche ein
  • Modifikation der Pulveroberfläche
  • Geeignet für die Kleinserienproduktion von Pulvern
  • Sicher und einfach zu bedienen

Hauptanwendungsbereich

  • Metallpulver
  • Niedrigtemperaturlegierung mit hoher Entropie
  • Niedertemperatur-Keramikpulver
  • Oxidpulver
  • Graphenbeschichtung
  • Andere Legierungen

Wichtigste technische Parameter

Plasmatyp Hochtemperatur-Mikrowellenplasma
Kerntemperatur Über 2000°C
Rechenleistung Metallpulver-Sphäroidisierung, Oberflächenmodifikation, Nanopartikelbeschichtung